Photoresist相关论文
在二元光学衍射微透镜的制作工艺中, 光刻胶的行为和特性对衬底的最终图形有着极为重 要的作用。光刻和刻蚀两道工序都要求实际图......
多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的发展方向。提出了一种以光刻胶三维形貌差异为评价目标的光刻多参数联合优化方法。以多个深......
利用低能离子轰击在光刻胶表面诱导产生自组织纳米波纹结构,将其作为掩模,与反应离子束刻蚀技术相结合,在熔石英表面制备了亚波长......
研究了制作折射型微透镜列阵的一种新方法光刻胶热熔成形法，获得了20×20的折射型微透镜列阵，单元微透镜相对口径为F/2，单元透镜直径......
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7......
为了在一个封装内集成更高层次的功能,设计人员采用了创造性的策略,即将多芯片规格、类型乃至材料合并成单个组件.连接不同的芯片......
在四次光刻工艺中,半光刻制程中光刻胶膜残量的控制,对于TFT沟道形貌以及电学特性至关重要。因此,本文研究了在氧化物TFT-LCD四次......
讨论了用醇酸树脂或聚氨脂树脂为平坦层,几种不同的枝状和线状聚硅烷为抗蚀层,在玻璃基片上的XeCl准分子激光光刻效果.由于聚硅烷......
由链末端含有-COOH、-OH和丙烯酰氧基的超支化聚合物、多官能丙烯酸酯和光引发剂三组分组成光致抗蚀剂。在玻璃片上成膜后硬度可达......
采用环氧树脂改性超支化聚酯制备了玻璃刻蚀用的光刻胶掩膜，研究了该感光树脂的感光活性、耐刻蚀性，以及加入HCl、HNO3后刻蚀对玻璃......
介绍了国内外光致抗蚀剂的研究进展、化学增幅光致抗蚀剂用光产酸剂--硫鎓盐的主要合成方法,同时介绍了193nm光致抗蚀剂所使用的光......
研究了用于制备悬空结构的叠层光刻胶牺牲层工艺．讨论了工艺中常遇到的烘胶汽泡、龟裂、起皱、刻蚀电镀种子层时产生的絮状物和悬空......
介绍了新型光致抗蚀剂在标牌行业的新应用,新型光致抗蚀剂也可以用于金属浮雕工艺品的制备中.这是一种适于网印的新材料,可以适用......
选用两种较为典型的国产Lift-Off光刻胶(A和B)进行了实验优化,并进行了电极蒸镀后的牢固度测试、电致发光测试和电性能测试。在牢......
成功开发出以劳厄干涉为基础的激光干涉光刻系统与工艺,该工艺可在大面积范围内加工二维周期性图形,非常适合于生产光电子器件和微......
在中国科学院上海应用物理研究所的扫描质子微探针装置上，研制了图形化扫描器，同时研究了适合质子束刻写的光刻胶制备、显影、定影技......
制备Ga As基电注入阴极需要在p型Ga As材料上制备周期性分布的金属薄膜电极。实验中,分别采用正性光刻胶AZ5214和负性光刻胶RPN115......
采用C-MEMS（carbon-microeletromechanic system）新型工艺制备碳微电极,将光刻胶经光刻、热解而得到导电碳微电极图形.利用国产BP212......
本文对影响LTPS工艺中光刻胶和衬底间粘附力的4个因素进行了实验及理论分析。经实验发现：衬底的材质和粗糙度以及光刻胶中分子量的......
通过光学功能薄膜、粘合剂、光刻胶和偏光片等的制作和在LCD显示面板制造中的用途，介绍了辐射固化技术在液晶显示器制作中的应用。......
制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对-甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫鎓盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的......
以二苯亚砜为起始反应物，通过改进反应溶剂，首先合成了溴化三苯基硫鎓盐，大大缩短了反应时间，提高了该盐的反应收率．再运用银盐置换法，合......
设计并合成了一种对高压汞灯发射光谱中的h-线（405nm）敏感的新型光致产碱剂（PBG）—N-{[（5-哌啶-2-硝基苄基）氧]-羰基}-2，6-二甲基哌啶（PNCD......
介绍了一种刻蚀效果良好的PZT铁电薄膜反应离子刻蚀方法。利用深反应离子刻蚀设备研究了反应离子刻蚀中刻蚀气氛、刻蚀功率及刻蚀......
In this paper,we report the study of the process of fabricating a multi-layermetal micro-structure using UV-LIGA overlay......
通过溅射电镀种子层前预烘胶与严格控制烘胶温度变化速率、用KOH稀溶液去胶、再用稀腐蚀体系加以轻度超声干涉去除电镀种子层和使......
提出一种用光致抗蚀剂膜层制作单层结构衰减相移掩模的新方法,介绍这种方法的原理和制作工艺,并给出这种方法制作的衰减相移掩模用......
近几年来液态感光抗蚀抗电镀油墨不仅应用于电路板行业，而且广泛应用于标牌、面板、模具制作等许多领域。详细阐述了光源和曝光设备......
介绍了光成像抗蚀抗电镀油墨的使用、工艺流程及操作方法,并提出了各工序中容易出现的问题及预防的办法.......
溴酚兰水溶液的紫外吸收会随着体系中含酸的量发生变化，在440nm吸收峰处一定浓度范围内溴酚兰水溶液的吸光度与溶液中酸浓度成正比，......
光致抗蚀剂是制作超大规模集成电路的关键性材料之一,随着集成电路产业对集成度要求的不断提高,对于光致抗蚀剂的研究也不断深入.......
光刻胶因其良好的性能被运用于芯片中,是芯片制作不可缺少的重要材料。对于保证光刻胶粘接芯片的存储安全,需要对其进行检测。文章......
近来尼龙过滤被广泛用于光刻工艺流程来改善良率，因为许多IC和光阻制造商有实验性证据表明尼龙滤膜能吸附杂质。然而，尼龙滤膜降低缺......
论述了光刻胶在场发射显示器制备中的应用，采用丝网印刷技术将光刻胶转移到镀有金属薄膜的玻璃基片上，利用紫外光对其进行光刻，通过视......
简述了正性光刻胶的光聚合机理,重点阐述了我国正性光刻胶的制备研究进展,并指出了我国正性光刻胶研究及发展方向。......
硫鎓盐类光产酸剂因其较高的产酸效率和好的热稳定性而广泛应用于化学增幅光致抗蚀剂中。本论文选择不同的酚化合物为原料,使之与......
利用相调制型光谱椭偏仪研究了光刻胶光学常数的测量方法，针对测量过程中光刻胶曝光控制优化了测量方案和仪器参数。对常见的$9912......
光刻胶的灰化是TFT四次光刻工艺的核心工艺之一,本文研究了TFT四次光刻工艺中光刻胶的灰化工艺,得到了功率、气压、灰化气体对光刻......
综述聚硅烷的光学特性、电学特性、光敏特性、热分解转化特性及功能化改性等多种奇异特性，并分别阐述了其在相应领域的应用现状及发......
对YG6硬质合金电化学蚀刻工艺进行了研究,提出了采用光致抗蚀剂作保护膜,在生成一定钝化膜的情况下进行电化学蚀刻的方法.在一定的......
确定了光刻胶的光刻工艺条件，研制了了适宜的显影液，介绍了感光树脂的应用价值。...
<正>现代微电子技术按照摩尔定律在不断发展,光刻技术也经历了从G线(436nm),I线(365nm),到深紫外248nm,及目前的193nm光刻的发展历......
